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				2025年 
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				第8.5H代卷對卷(Roll to Roll)雙面曝光機的開發和發貨開始 
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				2023年 
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				東工廠廠房內增建東工廠南樓 
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				2021年 
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				Desktop Mask Aligner 的開發以及開始銷售 
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				2020年 
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				8英寸晶圓用 新型掩膜對準曝裝置(Mask Aligner)的開發以及開始銷售 
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				2019年 
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				榮獲SCREEN GA2019 Best Supplier Award 
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				2018年 
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				LED LAMP HOUSE搭載曝光機開始銷售 
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				2017年 
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				將INDEX Technologies Inc. 吸收兼并 
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				2015年 
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				東京辦事處 開設 
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				2014年 
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				薄膜Roll to Roll雙面曝光裝置的開發 
 
1μm型無掩膜曝光裝置的開發 
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				2013年 
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				晶片TITLER轉動裝置的開發并開始供貨 
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				2012年 
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				電感線圈用曝光機的開發以及開始供貨 
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				2011年 
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				LLED、LD用Stepper( 投影曝光裝置) 的開發 
 
東工廠屋頂上設置太陽能發電系統 
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				2010年 
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				開始研發和供應新型圖像處理裝置(GA-LITE) 
 
3μm·5μm型無掩膜曝光裝置的開發 
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				2009年 
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				榮獲京都右京稅務署頒發的優良申告法人持續再表彰獎 
 
取得激光修復裝置的制造?銷售權 
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				2008年 
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				研發MUM曝光裝置,榮獲經濟產業省頒發的關西領跑者大獎 
 
開始研發和供應TOUCH PANEL(觸摸屏)用曝光機 
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				2007年 
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				研發三維微細加工(MEMS)用曝光機 
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				2006年 
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				以資本金2億4千萬日元和美商Ball semiconductou Inc.在京都南區合資設立 
INDEX Technologies Inc.,開始研發無掩膜曝光機 
 
KES?環境管理體系階段2登錄。 
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				2005年 
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				在京都市伏見區橫大路天王后開設橫大路工廠 
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				2004年 
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				在東工廠廠區內增設東**工廠(對應大型設備) 
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				2003年 
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				在京都南區久世筑山町445番地2開設久世工廠 
 
開始研發和供應PWB用Roll to Roll曝光機 
 
開始研發和供應LED、LD用曝光機 
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				2002年 
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				開始研發和供應有機EL用封止裝置 
 
研發第5代用2軸步進曝光機 
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				2001年 
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				開始研發和供應有機EL用曝光機 
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				2000年 
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				在韓國?臺灣設立服務網點 
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				1999年 
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				取得ISO9001認證 
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				1998年 
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				開始研發和供應印刷電路板量產用曝光機 
 
開始研發和供應直立型步進曝光機 
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				1997年 
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				在國內**周期間榮獲勞動大臣頒發的進步獎 
 
榮獲京都右京稅務署頒發的優良申告法人持續再表彰獎 
 
開始研發和供應PDP用曝光機 
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				1996年 
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				開始供應立式大型基板用近接曝光機 
 
在東工廠1F設置適應大型機的無塵車間 
 
開始啟用公司內部LAN(局域網) 
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				1994年 
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				開始研發LCD量產用第3期生產線裝置 
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				1993年 
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				開始供應基板TITLER 
 
開始供應線幅測量機 
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				1992年 
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				舉行創立25周年紀念儀式 
 
榮獲京都右京稅務署長頒發的優良申告法人表彰獎 
 
正式導入CAD 
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				1991年 
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				在東工廠2F設置無塵車間 
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				1990年 
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				開始供應裝配有變形裝載臺的大型基板用近接曝光機 
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				1989年 
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				開始供應裝載有間隙傳感器的非接觸大型基板用近接曝光機 
 
在京都市南區久世殿城町190番地1新設東工廠 
 
開始供應二維CCD傳感器方式自動對位曝光機 
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				1988年 
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				完成間隙傳感器 
 
開始供應混合印刷電路板基板用步進曝光機 
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				1987年 
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				舉行創立20周年紀念儀式 
 
在國內**周期間榮獲京都勞動標準局長頒發的進步獎 
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				1986年 
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				完成TAB系統用直立型?高性能自動信息處理器 
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				1985年 
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				完成二維CCD傳感器方式定位裝置 
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				1984年 
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				開始供應LCD彩色濾光片用自動對位曝光機 
 
開始供應裝載有新方式大型光源的曝光機 
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				1983年 
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				LCD用曝光機的大型化 
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				1982年 
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				舉行創立15周年紀念儀式 
 
開始供應LCD用自動對位曝光機 
 
在總部工廠內設置無塵車間 
 
開始供應熱感應打印頭用自動對位曝光機 
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				1981年 
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				在京都市西京區大原野石見町28番地1開設大原野工廠 
 
完成線形傳感器方式自動對位裝置 
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				1980年 
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				著手研發大型掩膜自動制圖機 
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				1979年 
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				在總部廠內增設南館 
 
在總部工廠內導入辦公用電腦,著手推進辦公自動化 
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				1977年 
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				開始供應熱感應打印頭用掃描曝光機 
 
開始供應LCD用曝光機 
 
開始供應測試信息處理器 
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				1976年 
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				完成新方式光源(橢圓鏡-復眼透鏡方式) 
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				1975年 
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				開始供應TAB曝光機 
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				1974年 
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				將總部及工廠搬遷到京都府向日市寺戸町久久相1番地 
 
開始供應真空密著式曝光機 
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				1973年 
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				開始供應新型精密縮小相機?自動接觸打印機 
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				1971年 
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				開始供應熱感應打印頭試制用對位曝光機 
 
資本金增加到5,000萬日元 
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				1970年 
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				著手研發半導體用掩膜自動制圖機等 
 
資本金增加到4,000萬日元 
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				1969年 
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				開始供應四筒式全自動縮小多面洗印照相機 
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				1968年 
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				開始供應半導體用曝光機械?掩膜制作用機械?二維比較測量儀器 
 
資本金增加到2,500萬日元 
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				1967年 
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				以250萬日元的資本金創辦了株式會社大日本科研,總部設立在京都市上京區五辻通智恵光院西入 
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